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Structure and Thermal Stability of Co- and Fe - Intercalated Double Silicene Layers

机译:钴和铁插层双硅层的结构和热稳定性

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摘要

The arrangement of Fe and Co atoms between two silicene planes was theoretically investigated. The research has shown that below 500 K Co atoms form stable lattices—“hexagonal” (with the lattice parameters 0.635 nm of AB configuration) and cubic (with the lattice parameter of 0.244 nm), whereas Fe atoms form cubic lattices only (with the lattice parameter of 0.281 nm). The system intercalated with Co atoms is stable enough at high temperatures up to ~625 K, while the Fe-silicene system is stable only at ~770 K. The silicene UV-spectrum depending on the intercalate concentration and association constant of the “silicene-intercalate” system was calculated.
机译:理论上研究了Fe和Co原子在两个硅平面之间的排列。研究表明,低于500 K的Co原子形成稳定的晶格-“六边形”(AB构型的晶格参数为0.635 nm)和立方(晶格参数为0.244 nm),而Fe原子仅形成立方晶格(其中AB构型)。晶格参数为0.281 nm)。嵌入Co原子的体系在高达625K的高温下足够稳定,而Fe-硅树脂体系仅在〜770 K时才稳定。硅的紫外光谱取决于“ Si-Si-Si”的嵌入浓度和缔合常数。计算了“插层”系统。

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