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GeVn complexes for silicon-based room-temperature single-atom nanoelectronics

机译:用于硅基室温单原子纳米电子的GeVn配合物

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摘要

We propose germanium-vacancy complexes (GeVn) as a viable ingredient to exploit single-atom quantum effects in silicon devices at room temperature. Our predictions, motivated by the high controllability of the location of the defect via accurate single-atom implantation techniques, are based on ab-initio Density Functional Theory calculations within a parameterfree screened-dependent hybrid functional scheme, suitable to provide reliable bandstructure energies and defect-state wavefunctions. The resulting defect-related excited states, at variance with those arising from conventional dopants such as phosphorous, turn out to be deep enough to ensure device operation up to room temperature and exhibit a far more localized wavefunction.
机译:我们提出锗空位络合物(GeVn)作为一种可行成分,可在室温下利用硅器件中的单原子量子效应。我们的预测是基于通过精确的单原子注入技术对缺陷位置进行高度可控制性而得出的,其预测是基于无参数筛选相关混合函数方案中的从头算密度函数理论计算得出的,适用于提供可靠的能带结构能量和缺陷状态波函数。所产生的与缺陷相关的激发态与常规掺杂剂(例如磷)所产生的激发态不同,其激发态足够深,以确保器件在室温下仍能正常工作并表现出更局限的波函数。

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