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Revealingthe Bonding Environment of Zn in ALD Zn(OS) Buffer Layers throughX-ray Absorption Spectroscopy

机译:揭示ALD Zn(OS)缓冲层中Zn的键合环境X射线吸收光谱

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摘要

Zn(O,S) buffer layer electronic configuration is determined by its composition and thickness, tunable through atomic layer deposition. The Zn K and L-edges in the X-ray absorption near edge structure verify ionicity and covalency changes with S content. A high intensity shoulder in the Zn K-edge indicates strong Zn 4s hybridized states and a preferred c-axis orientation. 2–3 nm thick films with low S content show a subdued shoulder showing less contribution from Zn 4s hybridization. A lower energy shift with film thickness suggests a decreasing bandgap. Further, ZnSO4 forms at substrate interfaces, which may be detrimental for device performance.
机译:Zn(O,S)缓冲层的电子结构取决于其组成和厚度,可通过原子层沉积对其进行调节。 X射线吸收边缘结构附近的Zn K和L边缘验证了离子性和共价性随S含量的变化。 Zn K边缘的高强度肩部表明强Zn 4s杂化态和优选的c轴方向。低S含量的2–3 nm厚膜显示出柔和的肩部,表明Zn 4s杂交的贡献较小。随着膜厚度的较低的能量偏移表明带隙减小。此外,ZnSO 4在衬底界面处形成,这可能对器件性能有害。

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