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韩泾奎;
山西铝厂;
深度脱硅; 连续碳分; 分解率;
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机译:关于深度梁静态分析的解决方案利用综合应用,有限元法和离散 - 连续有限元法的应用。第2部分:边界条件
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机译:在先进材料先驱体生产中形成硅碳键的途径的应用:第一部分:作为碳化硅单源CVD前驱体的环状和线性碳硅烷的研究。第二部分:新型氟和氰基取代的聚(亚甲撑亚甲基)的合成与表征。
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机译:含硫和碳的矿物脱硅的初步研究。
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机译:碳纳米技术和碳微电子技术的导电材料及其应用
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