铁磁形状记忆合金Ni-Mn-Ga薄膜制备工艺研究

陈自新; 郭世海; 李长生

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铁磁形状记忆合金(FSMA)是一种新型智能材料,Ni-Mn-Ga合金是这种材料的典型代表.本文使用ECR磁控溅射方法在NaCl晶片上制备出了Ni-Mn-Ga薄膜,并对其制备溅射功率进行了探讨.通过对薄膜成分和表面性质的分析,知22.5 W为其制备的最佳功率.对沉积在玻璃片上的薄膜进行衍射分析各其为有序化程度不高的晶态.

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来源
《真空》 |2006年第2期|18-20|共3页
作者
陈自新; 郭世海; 李长生;
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作者单位

江苏大学机械学院江苏镇江 212013;

钢铁研究总院功能材料研究所北京 100081;

江苏大学机械学院江苏镇江 212013;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类智能材料;
关键词
铁磁形状记忆合金; Ni-Mn-Ga; ECR磁控溅射; 薄膜;

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