氮化硅窗口在大气环境软X射线接触成像中的应用研究

摘要

成功地研制了将软X射线引入大气中的氮化硅窗口。根据具体数据 ,对大气环境下软X射线接触成像的水窗软X射线衰减进行了估算 ;给出成像实验结果并观察到了氮化硅膜上的微粒图像叠加在样品图像上的现象。所得结果与理论估算相一致。即使用 3 2nm的软X射线时 ,同一样品在大气环境中所需的曝光量约为真空中的两倍。这些结果将十分有益于大气环境下的软X射线接触显微术及软X射线扫描透射显微术的研究。