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陈隆智;
真空镀膜; 镀膜装置; 溅射;
机译:摘要摘要:半导体溅射镀膜应用中新的真空工艺需求趋势
机译:真空离子溅射镀膜制备金掺杂二氧化钛(Tio 2 sub>:Au)纳米纤维光催化剂
机译:TrV溅射镀膜真空室中达到的最高压力
机译:在高真空溅射镀膜机上智能沉积用于触摸屏工艺的高质量ITO薄膜
机译:低温真空装置中磁光和静磁捕获铯的研究
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机译:热空心阴极及其在真空镀膜中的应用。简明回顾
机译:用于真空镀膜系统的溅射镀膜装置,包括具有安装凸缘和支撑部分的支撑单元,溅射磁控管和真空泵,其中支撑部分通向安装凸缘的吸入口
机译:用于控制真空镀膜系统中磁控溅射时镀膜速率横向分布的装置,具有用于调节从气体通道段进入真空室的气体流量的气体调节单元,该气体调节单元被设置为致动器
机译:可用于真空镀膜厂的溅射镀膜装置,包括具有凸缘和载体轮廓的支撑单元,以及平行于轮廓布置的溅射磁控管,其中磁控管相对于轮廓可调节的距离固定
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