低能Ar＋离子溅射合金表面组份变化的俄歇电子谱研究

摘要

用 AES分析了 AgCu、NiCr 合金受低能 Ar^+离子轰击后表面组份的变化,通过俄歇低能峰(LAES)和俄歇高能峰(HAES)的分析发现,离子轰击使合金表面组份达到相对稳定时,停止轰击后表面成分在短时间内有一个变化。离子轰击引起表面成分的变化发生在表面外层和以下数层内。随着轰击离子能量和束流密度的变化,表面最外层成分处于相对稳定和饱和的趋势,而亚表层内成分随之变化。对此,估算了这种变化对 AES 定量分析的影响,并对离子轰击诱导表面偏析和增强扩散效应进行了讨论。