日本开发出采用激光CVD法的Al2O3涂层低温高速成膜新技术

摘要

日本东北大学金属材料研究所和产业技术综合研究所采用CVD法，通过Nd—YAG激光器（输出功率250W）的激光照射，使靶材等离子化，形成活性反应场，在较原来约低400℃的温度下实现了Al2O3单晶涂层的快速成膜，使成膜速度提高了数十倍到上千倍。成膜温度约为1000K，比原方法降低了500K。