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硅材料中硼杂质扩散综述

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摘要

对国内近20年来扩散技术的进展进行了介绍,引用不同科研人员的研究成果说明以下结论:硼扩散仍是目前扩散中最常用的扩散方法;乳胶源扩散比普通的硼扩散容易实现深扩散;乳胶硼铝扩散必须在抛光前进行,可采用两次扩散的方法来代替.

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来源
《天津科技》 |2008年第1期|64-65|共2页
作者
王春梅;
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作者单位

中国电子科技集团公司第46所,天津300220;

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正文语种 chi
中图分类化学;
关键词
硅; 硼扩散; 两次扩散;

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