多晶硅薄膜制备工艺及其应用发展

摘要

多晶硅薄膜在一些半导体器件及集成电路中得到了广泛的应用。由于多晶硅生产成本低，效率稳定性好、光电转换效率高，多晶硅薄膜的研究备受关注。目前多晶硅薄膜已广泛地用于各种微电子器件的制造，其用途从栅极材料和互联引线发展到绝缘隔离、钝化、太阳能电池、各种光电器件等。文章介绍了制备多晶硅薄膜的多种工艺方法，结合现有工艺条件制作多晶硅纳米薄膜，根据多晶硅压阻特性理论进行了LPCVD纳米薄膜工艺试验，研究了工艺条件对多晶硅纳米薄膜应变系数的影响，选取了优化的工艺条件，为多晶硅纳米薄膜在今后压阻式压力传感器中的应用奠定基础。