首页> 中文期刊> 《光谱学与光谱分析》 >ZnO薄膜受激发射特性的研究

ZnO薄膜受激发射特性的研究

         

摘要

氧化锌薄膜因其大的激子结合能和强的光发射、激光阈值低和能在高温下工作等优点而成为制备短波长激光、发光二极管等光电子器件的有希望材料.采用激光分子束外延(L-MBE)方法制备了ZnO薄膜.在室温下,测量了样品的吸收光谱,以及不同光泵浦强度下的发射光谱.从光谱图中可以看出该材料有很好的质量.研究了ZnO薄膜的受激发射特性及机理;测量了发射光强与泵浦光强之间的关系;比较了较高激发密度下的受激发射、自发发射和激光脉冲的时间特性,这些都证实了该发射是受激发射.

著录项

  • 来源
    《光谱学与光谱分析》 |2003年第3期|461-464|共4页
  • 作者单位

    北方交通大学光电子技术研究所,信息存储、显示与材料开放实验室,北京,100044;

    北方交通大学光电子技术研究所,信息存储、显示与材料开放实验室,北京,100044;

    北方交通大学光电子技术研究所,信息存储、显示与材料开放实验室,北京,100044;

    北方交通大学光电子技术研究所,信息存储、显示与材料开放实验室,北京,100044;

    北方交通大学光电子技术研究所,信息存储、显示与材料开放实验室,北京,100044;

    北方交通大学光电子技术研究所,信息存储、显示与材料开放实验室,北京,100044;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 受激光发射;
  • 关键词

    ZnO薄膜; 受激发射; 自发辐射; 阈值;

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号