重度深覆(牙合)正畸中微型种植体支抗系统的应用观察

摘要

目的 观察重度深覆(黯)正畸治疗中微型种植体支抗系统的应用效果.方法 8例成年前牙Ⅲ度深覆(牙)(合)、下颌前部牙槽发育过度的高角患者,均采用微型种植体作支抗,在两侧下侧切牙牙根和尖牙牙根间牙槽骨唇侧植人,每侧以50 g的牵引力压低下前牙.比较治疗前及覆(殆)正常时L6-MP距(下颌第一磨牙近中颊尖至MP平面的距离)、L1-MP距(下中切牙切缘点至MP平面的距离差)和转矩(L1-MP角).结果 本组患者治疗4～8个月.治疗过程中微型种植体稳定,无松动和脱落.治疗前L6-MP距、Li-MP距、L1 -MP角分别为(54.26±1.87)mm、(65.38±1.42)mm、92.57°±2.12°,治疗后分别为(54.47±1.48)mm、(60.13±1.25)mm、92.78°±2.03°,治疗前后Li-MP距相比,P＜0.05,L6-MP距、Li-MP角相比,P均＞0.05.结论 用微型种植体支抗系统压低高角深覆(黯)患者的下前牙,效果良好.