后摩尔时代的基于一维纳米材料的CMOS技术

摘要

基于碳纳米管的场效应晶体管技术源于1998年,在随后的近10年间p型（空穴型）场效应晶体管的制备技术日趋完善,其性能全面超过相对应的硅基场效应晶体管.最近北京大学研究组关于高性能室温弹道n型（电子型）碳纳米管场效应晶体管的研究为基于碳纳米管的CMOS（complementary metal-oxide-semiconductor）技术的腾飞装上了另一个翅膀.特别是这种技术无需掺杂,加上碳纳米管特殊的几何和电子结构使得基于碳纳米管的CMOS技术有望突破传统微电子工艺所面临的一些根本性的困难,为下一步实现基于碳纳米管的纳电子电路的规模集成奠定了基础.