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赵辉; 庄恩泽; 沙双庆; 金杨林;
南京中电熊猫平板显示科技有限公司 江苏 南京 210033;
TFT-LCD; 曝光; 工艺; 解析能力; OPC;
机译:用于FPD的大型光掩模的最新技术趋势多色调掩模和新的曝光技术有助于降低大型TFT-LCD的成本
机译:紫外线固化工艺的关键因素-紫外线工艺设计和工艺控制中的曝光条件与测量的关系:第一部分-简介
机译:在佳能工艺中实现在半导体曝光装置宽视角下的曝光
机译:基于MAS和OPC技术的工艺业MES集成框架研究
机译:使用FPGA-SOPC技术和异构最大服务调度的可重构独立多通道数据采集,归档,监视和处理系统
机译:使用标准BSI工艺制造的3.0μm三倍增益像素的90 dB以上场景内单曝光动态范围CMOS图像传感器
机译:烟草初级控制系统的OPC技术研究与应用
机译:由线性偏振紫外曝光工艺制备的径向和方位角定向液晶取向图案
机译:4-使用4掩膜在TFT-LCD制造过程中采用半色调曝光工艺的照片掩膜
机译:使用4掩膜在TFT-LCD制造过程中使用半色调曝光过程的照片掩膜
机译:TFT-LCD背光单元和TFT-LCD背光单元和TFT-LCD设备具有相同的光导板
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