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等离子体去钻污孔内凹蚀的表征

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摘要

介绍了一种等离子体去钻污,孔内凹蚀深度的表征方法,通过对FR-4普通厚径板(4:1)和高厚径板(17:1)去钻污的实验证明等离子体孔内凹蚀具有非常好的均匀性、一致性和可控性,同时利用这种表征方法可以达到有目的控制孔内凹蚀量的效果.

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来源
《印制电路信息》 |2006年第11期|30-34|共5页
作者
陈蓓; 李志东;
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作者单位

广州市兴森电子有限公司,510730;

广州市兴森电子有限公司,510730;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类微电子学、集成电路（IC）;
关键词
等离子体; 去钻污; 凹蚀量;

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