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段茜; 姚欣; 陈铭勇; 马延琴; 刘世杰; 唐雄贵; 杜惊雷;
四川大学,物理科学与技术学院,四川,成都,610064;
厚层抗蚀剂曝光模型; 显影轮廓; 显影线宽; 边墙陡度;
机译:254 nm辐照用于记忆膜的厚聚二甲基戊二酰亚胺厚膜的曝光和显影
机译:具有反射效应的部分曝光后显影后光刻胶SU-8厚度的模拟模型
机译:非平面形貌的严格三维光刻胶曝光和显影模拟
机译:使用渗流和扩散受限聚集模型模拟EUV光刻胶的曝光和显影中的统计效果
机译:分析连续卷对卷柔性电子设备的光刻胶显影过程。
机译:利用厚光刻胶曝光区和非曝光区之间玻璃化转变温度的差异对多孔材料进行微图案化的方法
机译:用改进的Bartlett-Lewis矩形脉冲模型模拟短时间降水模型用改进的Bartlett-Lewis矩形脉冲模型模拟短时降水
机译:使用镍 - 次磷酸盐系统的X射线产生的可显影图像。 2次磷酸钠的曝光和显影参数
机译:正曝光重氮酮光刻胶在高对比度光刻胶显影中提高感光度的预曝光方法
机译:两浴式显影装置,用于显影曝光的照相层背胶
机译:两浴-显影设备,用于显影曝光的照相层背胶。
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