SXM-Ⅱ增变色水溶性光敏抗蚀干膜

摘要

＜正＞ SXM-Ⅱ增变色水溶性光敏抗蚀干膜主要由高分子成膜物、不饱和树脂、光敏引发剂、热阻聚剂、增塑剂。光敏变色剂等组成,在紫外光照射后,不饱和树脂在引发剂的作用下发生交联。这种膜不溶于碱液,而被紫外光照射的膜能溶于稀碱液,在显影时除去,得到图案。 SXM-Ⅱ增变色水溶性光致干膜,可用于制造高精度,高密度,高可靠性的印刷电路板,是制造大容量电子计算机必不可少的