磁流变抛光高精度光学表面中的工艺参数(英文)

摘要

对磁流变抛光进行高精度光学表面加工中必须考虑和控制的7类参数,即磁流变液黏度、磁场强度、磁流变液流量、抛光轮转速、锻带厚度、切深以及抛光斑点特性进行分析和优化,得出单因素条件下材料的去除量总是同这7类参数的变化存在一定的内在联系.在分析和优化磁流变抛光过程中这些参数的基础上,采用自研的KDMRF-1000机床对一块K4材料口径100,mm的平面镜进行了抛光加工实验.经过两次循环大约200min的抛光后,面形误差值由最初的峰谷值(PV)为262,nm,均方根值(RMS)为49,nm收敛到最终的PV为55,nm,RMS为5.7,nm.实验中面形误差的收敛表明:只要掌握了磁流变抛光过程中的这7种参数的变化规律,就能充分利用磁流变抛光技术,为高精度光学表面的加工提供可靠的保障.