表面镀钛对金刚石薄膜场发射特性的影响

摘要

利用等离子体化学气相（MWPCVD）沉积法在Si（100）面上沉积了金刚石薄膜，采用SEM、AFM、XRD、Raman、XPS等方法对薄膜的结构及表面形貌进行了分析。为提高薄膜的场发射性能，在金刚石表面溅射了金属Ti，对比金刚石薄膜、金刚石／金属Ti复合薄膜的场发射性能，结果表明，金刚石／金属Ti薄膜的发射电流密度更大，且随着电场的增加电流密度急剧增加，开启电场低，约为3V／μm，当电场为25V／μm时发射电流密度可达到1400mA／cm2，并在机理上进行了一些探索，对金刚石／金属复合结构薄膜的场发射性能研究有重要意义。