HBES玻璃制作多阶相位结构灰阶掩模

摘要

多阶相位器件是一类具有极高衍射效率的光学元件,主要应用于光互连、光通信、平面光学、折衍混合光学等方面。本文采用电子束直写曝光的方法,利用HEBS玻璃制作变灰阶掩模,实验测得掩模透过率误差不超过0.7%,制得菲涅尔透镜台阶高度误差不超过16%,证实了该方法的实用性和可靠性。