FED的光刻技术

         

摘要

通过数值计算分析了FED接触光刻的中衍射效应,并在现有的条件下实现了一种简单而实用的大面积一微米直径微孔的接触光刻方法。

著录项

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号