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蒋盼; 彭坤; 周灵平; 朱家俊; 李德意;
湖南大学材料科学与工程学院,长沙410082;
直接覆铜法; 氧化; 氧化亚铜; 厚度;
机译:慢加热速率氧化铜片制备的p-Cu2O纳米表面的结构和光电化学性能,其光电流和H-2评价速率最高
机译:涂层厚度对等离子电解氧化法制备氧化铝涂层及氧化铝/铝杂化材料导热系数的影响
机译:热氧化法制备IZO / Cu2OH异质结构太阳能电池及其光电性能
机译:通过化学浴沉淀法制备(111)优选取向Cu2O膜的制备和膜厚度控制
机译:晶体X射线衍射,超声速度和机械测量预测的织构发展对铜和黄铜片材材料弹性各向异性的影响
机译:更改两层厚度:i-ZnO纳米棒p-Cu2O及其对p-Cu2O / i-ZnO纳米棒/ n-IGZO异质结的载流子传输机制的影响
机译:改变两层厚度:i-ZnO纳米棒,p-Cu2O及其对p-Cu2O / i-ZnO纳米棒/ n-IGZO异质结的载流子传输机制的影响
机译:利用催化氧化法制备氰化物废水。
机译:纳米粒子催化剂Cu2O / TiO2和Cu2O / TiO2纳米粒子催化剂的制备方法
机译:用于微电子学的薄半导体层的制备方法,涉及通过同时处理层的整个表面来校正层厚度,同时在层表面的不同区域中局部适应层厚度。
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