二氧化硅微米球与纳米粒子膜间的摩擦研究

摘要

通过旋涂法制备表面粗糙度为(57±1.7)nmr的SiO2纳米粒子膜来模拟纳米器件的基底.采用原子力显微镜胶体探针,分别对有无正辛基三氯硅烷修饰时,该体系的纳米摩擦学性能进行评价.结果表明:二氧化硅胶体探针与SiO2纳米粒子膜之间的黏着力和摩擦力均随着法向载荷增加而增大,而经正辛基三氯硅烷修饰后,该自组装膜能显著改善SiO2表面间的摩擦学性能,起到明显减摩擦抗黏的效果.