首页> 中文期刊>激光与红外 >正/负双层光刻胶厚膜剥离技术

正/负双层光刻胶厚膜剥离技术

开具论文收录证明 >>

期刊封面封底目录下载 >>

页面导航

摘要
著录项
相似文献
相关主题

摘要

首次介绍一种正/负双层光刻胶厚膜剥离技术,采用在厚层正型光刻胶上涂薄层负型光刻胶的方法,在光刻胶的边缘形成顶层外悬的屋檐式结构,实现了10μm蒸发膜层的无高沿边缘剥离.对不同的剥离膜厚,选取合适的胶厚,可控制剥离膜的横向尺寸精度.10μm厚蒸发膜层的横向尺寸差可控制在5μm内.

著录项

来源
《激光与红外》|2006年第4期|282-284|共3页
作者
林立; 韦书领; 杨春莉; 刘理天; 程绍椿;
展开▼
作者单位

华北光电技术研究所,北京,100015;

华北光电技术研究所,北京,100015;

华北光电技术研究所,北京,100015;

清华大学微电子所,北京,100086;

华北光电技术研究所,北京,100015;

展开▼
原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类光刻、掩膜;
关键词
光刻; 正/负双层光刻胶; 屋檐式边缘结构; 厚膜剥离;
入库时间 2022-08-18 03:11:59

相似文献

中文文献
外文文献
专利

1. 图形反转双层光刻胶金属剥离技术 [J] . 李春燕 ,王宇 ,张霞 . 电源技术 . 2005,第003期
2. 用正性光刻胶进行GaAs IC的非辅助直接剥离技术 [J] . 廉亚光 . 半导体情报 . 1991,第003期
3. 上海新阳自研 KrF(248nm)厚膜光刻胶产品取得第一笔订单 [J] . . 中国集成电路 . 2021,第8期
4. 住友公司开发高性能厚膜光刻胶 [J] . . 上海化工 . 2003,第004期
5. 对建筑工程方格网计算土石方一正三负与一负三正公式的探讨 [J] . 刘贵禹 . 阳煤科技 . 1993,第004期
6. 厚膜光刻胶和阳离子光固化材料 [C] . 郭晔嘉 ,邹应全 ,庞玉莲 . 2015全国非银盐成像材料及光刻胶发展论坛 . 2015
7. 应用于MEMS器件的光刻胶剥离技术关键工艺研究 [A] . 樊继武 . 2016

获取原文

客服邮箱：kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备：11010802029741号 ICP备案号：京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有

客服微信
服务号