离子束辅助沉积镍铬合金膜研究

摘要

分析了电子束沉积镍铬合金膜沉积的主要缺点,提出离子辅助电子束法沉积镍铬合金膜的新方法.利用氩离子辅助在微通道板表面沉积了镍铬合金膜,对比和分析了使用氩离子辅助沉积和电子束沉积薄膜的性质(附着力、致密性、表面电阻等).结果表明,使用250eV的氩离子源辅助沉积的镍铬合金膜附着力好、结构致密、表面电阻低.