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End—Hall离子源及其辅助镀膜技术

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由西安工业大学自行研制的End-Hall离子源，已经成功在离子辅助镀膜中镀制了ZnS，MgF2，SO2等薄膜，其光学性能，耐磨，耐酸，碱等性能大大提高，近几年来利用中空离子源采用CH4气体成功镀制出类金刚石薄膜红外线光学保护膜材料．

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来源
《西安工业大学学报》|2007年第5期|490-490|共1页
作者
苗静;
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作者单位

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类 TQ171.724;
关键词
离子源; 镀膜技术; 类金刚石薄膜; 离子辅助镀膜; 光学性能; 保护膜材料; 工业大学; MgF2;
入库时间 2022-08-20 13:30:20

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