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阳志强; 李宏; 郭忠达;
西安工业大学 光电工程学院;
西安 710021;
流变抛光; 蓝宝石; 化学机械抛光; 表面粗糙度; 去除率;
机译:PCB上铜电路的电化学机械抛光工艺研究
机译:铌酸锂的化学机械抛光工艺研究
机译:蓝宝石化学机械抛光中用于杂化微粒的亚10纳米二氧化硅微粒的新特性
机译:化学机械抛光实施后化学机械抛光对钛植入物表面性质的影响FT-IR和钛植入物表面的润湿性数据
机译:蓝宝石底物介电泳抛光(DEPP)/化学机械抛光(CMP)的对比试验
机译:使用先进的磁流变抛光技术去除影响钛蓝宝石光学质量的晶格缺陷
机译:用于制造蓝宝石n的方法和设备。蓝宝石n。蓝宝石n。蓝宝石n。蓝宝石n。蓝宝石n。蓝宝石n。蓝宝石n。 u0431 u043b u0435 u0446 u043a u0430 u043d u0443
机译:用于抛光蓝宝石表面的化学机械抛光组合物及其使用方法
机译:抛光蓝宝石表面的化学机械抛光组合物及其使用方法
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