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何永华; 于国萍; 魏正和; 曾志锋;
武汉大学物理科学与技术学院;
射频溅射法; 制备; 掺铂; 二氧化钛薄膜; 富积; 表面形貌;
机译:粉末靶材上掺Nb的TiO_2射频溅射薄膜的结构,光学和电学研究
机译:溶胶-凝胶法制备掺Sb的TiO_2薄膜的光电化学性质和晶体结构变化
机译:射频溅射沉积在LaAlO_3上的Nb掺杂TiO_2薄膜的结构和电传输性质
机译:掺金和掺铂的PLT 28薄膜的光学性质
机译:通过射频溅射制备的几个(n)CdTe薄膜和Ag / Al-(n)CdTe结的研究。
机译:原子层沉积制备的掺钛ZnO薄膜的结构电学和光学性质
机译:射频溅射制备铜铁矿掺镁的CuCrO2薄膜的p型导电透明特性
机译:采用射频溅射法制备高性能镉铟透明导电薄膜
机译:射频溅射法制备钛酸钡和掺铜锶薄膜的工艺。
机译:使用射频溅射装置的有机薄膜层的形成方法,射频溅射装置以及用于射频溅射装置的靶材形成装置
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