多界面氟硅共掺杂类金刚石薄膜的腐蚀性

张仁辉; 赵娟; 石维

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多界面氟硅共掺杂类金刚石薄膜的腐蚀性

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采用等离子体增强化学气相沉积方法制备得到了不同偏压下(0.8kV、0.9kV、1.0kV)的多界面氟硅共掺杂类金刚石薄膜.通过SEM表征可知,在不同偏压下制备的薄膜厚度分别为5.0μm、8.5μum和10μm;通过TEM表征得到所制备的膜层为无定型结构;划痕测试与腐蚀测试结果显示,0.8kV下制备得到的膜层不仅膜基结合好,而且耐蚀性能好.

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来源
《铜仁学院学报》 |2017年第3期|31-33|共3页
作者
张仁辉; 赵娟; 石维;
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作者单位

铜仁学院材料与化学工程学院,贵州铜仁554300;

铜仁学院大数据学院,贵州铜仁554300;

铜仁学院材料与化学工程学院,贵州铜仁554300;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类电化学、电解、磁化学;
关键词
偏压; 类金刚石; 腐蚀; 内应力;

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