光栅光谱分布特性分析与讨论

摘要

在分光仪上做光栅衍射实验时,将缝光源绕主光轴旋转,即改变缝光源的位置,可观察到随着缝光源同步旋转的光栅光谱,说明谱线的分布特性和缝光源的位置有关;一般情况下,单缝衍射和多光束干涉同时对光栅光谱的分布特性产生影响,但是单缝衍射仅对谱线的强度起调制作用,谱线的位置数目是由多光束干涉决定的;考虑缝光源的位置、光波通过光栅时的入射方式及光栅平面上光波相位分布情况,采用矢量图解法仅对多光束干涉进行分析及计算,得到多光束干涉光强分布的一般公式;通过多光束干涉光强分布的一般公式可以解释实验中观察到的随着缝光源同步旋转的光栅光谱分布特性,这在一定程度上是对目前国内常见《光学》教材中多光束干涉相关内容的拓展和完善.