(Ni_(0.79)Fe_(0.21))_(1-x)Nb_x种子层对Ni_(0.79)Fe_(0.21)合金磁电阻的影响

张翠玲; 滕蛟; 郑瑞伦

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(Ni_(0.79)Fe_(0.21))_(1-x)Nb_x种子层对Ni_(0.79)Fe_(0.21)合金磁电阻的影响

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采用磁控溅射的方法, 在诱导磁场下制备了[(Ni0 79Fe0 21)1-xNbx]/NiFe/Ta 系列膜, 测量了种子层中Nb原子的百分含量、膜的微结构和膜的MR( Magnetoresistance), 研究了种子层的厚度和种子层中Nb原子的百分含量对NiFe的MR的影响. 实验表明: 以NiFeNb为种子层可较明显的改善Ni0 79Fe0 21膜的微结构, 提高其磁电阻性能.

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来源
《西南师范大学学报：自然科学版》 |2005年第2期|268-271|共4页
作者
张翠玲; 滕蛟; 郑瑞伦;
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作者单位

西南师范大学物理学院;

北京科技大学材料学院;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类 O484.43;
关键词
NiFeNb种子层; 坡莫合金; 磁电阻;

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