响应面法优化芳纶纤维表面原位合成纳米SiO2粒径工艺的研究

摘要

采用响应面法中的Box-Behnken中心组合设计（BBD）,研究了对位芳纶短切纤维表面原位生长纳米SiO2粒径尺寸的最佳工艺条件,并考察了无水乙醇（以g表示）、纯水、氨水、TEOS四个因素对生长的纳米SiO2粒径尺寸的影响,建立了相关的数学回归模型.实验结果表明：各因素对纳米SiO2粒径影响的显著性顺序为纯水（B）〉乙醇（A）〉氨水（C）〉TEOS（D）;优化后的最佳工艺参数为：乙醇276.42 g,纯水43.2 g,氨水18.75 g,TEOS为62.5 g,得到纳米SiO2粒径尺寸为294.8 nm,此时纤维表面的纳米SiO2生长良好,致密均一,与模型的预测值基本相符.