牙釉质表面处理仪研制及其对离体牙抛光效果的研究

摘要

目的:研制一种适用于固定正畸后牙釉质表面粘结剂去除及抛光的仪器,为临床提供一种新的抛光方法.方法:选择正畸拔除的前磨牙60颗,随机分成2组,每组30颗.测出其粗糙度Ra1,再行托槽的粘结,去除.一组用自行设计的牙釉质处理仪作用于牙齿的表面去除粘结剂,抛光,测出其粗糙度Ra2;对照组为常规抛光组,抛光后,测出其粗糙度Ra2.结果:釉质处理仪处理后表面粗糙度值降低(P＜0.05),对照组无显著性差异(P＞0.05).结论:釉质处理仪对离体牙的处理结果可以达到对牙齿抛光的要求.