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高强度聚焦超声功率源的优化设计

             

摘要

高强度聚焦超声(HIFU)功率源直接影响HIFU治疗的有效性和安全性.受功率MOSFET极间电容和导通电阻等寄生参数的影响,基于E类功率放大电路的HIFU功率源实际工作特性常偏离理想条件下的理论设计值.在理论设计的基础上,结合功率MOSFET等效电路模型,采用Saber软件对HIFU功率源的E类放大电路进行仿真,得到了放大器最佳工作状态时的谐振回路参数.实验测试表明,优化后的功率源工作效率和特性有显著的提高.

著录项

  • 来源
    《电源学报 》 |2013年第6期|46-52|共7页
  • 作者单位

    重庆医科大学生物医学工程学院,省部共建超声医学工程国家重点实验室,超声医学工程重庆市市级重点实验室,重庆400016;

    重庆医科大学生物医学工程学院,省部共建超声医学工程国家重点实验室,超声医学工程重庆市市级重点实验室,重庆400016;

    重庆通信学院特种电源重点实验室,重庆400035;

    重庆医科大学生物医学工程学院,省部共建超声医学工程国家重点实验室,超声医学工程重庆市市级重点实验室,重庆400016;

    超声医疗国家工程研究中心,重庆401121;

    超声医疗国家工程研究中心,重庆401121;

    重庆医科大学生物医学工程学院,省部共建超声医学工程国家重点实验室,超声医学工程重庆市市级重点实验室,重庆400016;

    超声医疗国家工程研究中心,重庆401121;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 放大器:按工作原理分 ;
  • 关键词

    高强度聚焦超声 ; E类功率放大电路; Saber仿真 ; 优化设计;

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