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朱秀榕; 赖珍荃; 蒋雅雅; 范定寰;
南昌大学物理学系;
氮化钛薄膜; 磁控溅射; 氮气流量;
机译:氮气流量比对反应磁控溅射制备(Hf:N)-DLC薄膜光学性能的影响
机译:氮气流量对直流反应磁控溅射法制备氮化铌薄膜优选取向和相变的影响
机译:反应直流磁控溅射制备TiN_x和Ti_(1-x)Al_xN薄膜的结构性能和电阻率:氮气流量的影响
机译:Ar / O2气体流量比对直流磁控溅射制备的TiO2薄膜光催化效率的影响
机译:非垂直入射反应磁控溅射制备的金属氮化物(氮化铝,氮化钛,氮化ha)薄膜的织构演变。
机译:通过磁控溅射中氮流量的氮气流量调节的Ti-Zr三元氮化物薄膜的结构组成和等离子体特性
机译:氮气流量对CrNx薄膜材料性能的影响\ ud 反应磁控溅射法生长
机译:反应磁控溅射制备超导Tl-Ca-Ba-Cu-O薄膜
机译:在碳钢上形成TiNx薄膜时利用复合颗粒(TiNx)的表面密度制备具有最大微硬度的薄膜的方法
机译:反应性高频磁控溅射制备电致变色镜工作电极双eu三薄膜的方法
机译:通过使用氮气对锌靶进行反应溅射制备的薄膜半导体材料
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