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CVD技术在制备含硅化合物膜层中的应用

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本文综述了近十几年来CVD技术在不同基底材料上制取含硅化合物膜层的研究应用,并提出了目前存在的问题.

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来源
《材料科学与工程学报》 |2001年第2期|128-131|共4页
作者
刘立; 沈复初; 袁骏; 叶必光; 田丽; 郦剑;
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作者单位

浙江大学材料系,;

浙江大学材料系,;

浙江大学材料系,;

浙江大学材料系,;

浙江大学材料系,;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类 TN304.055;
关键词
CVD; 含硅化合物膜;

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