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低温PVD法制备多组分超硬薄膜研究

     

摘要

对薄膜淀积的各种PVD技术和新型薄膜研究进展进行了综述,讨论了多组分硬质薄膜低温制备存在的问题,指出了解决的办法;归纳了影响多组分硬质薄膜在三维基体上均匀、均质淀积的因素,重点讨论了基体旋转与靶源配置问题;指出了用低温PVD法淀积多组分超硬薄膜研究方向.

著录项

  • 来源
    《材料科学与工程学报》|2003年第1期|110-116|共7页
  • 作者单位

    清华大学新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室,北京,100084;

    清华大学新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室,北京,100084;

    清华大学新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室,北京,100084;

    清华大学新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室,北京,100084;

    清华大学新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室,北京,100084;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 TB43+O484.4;
  • 关键词

    多组分薄膜; 硬质薄膜; 低温 PVD法;

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