碳化硅与LAS(Li2O-Al2O3-SiO2)界面化学稳定性研究

曹涯路; 王利; 杨光义; 潘颐

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碳化硅与LAS(Li2O-Al2O3-SiO2)界面化学稳定性研究

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借助最新最权威基本的热力学数据,按化学平衡理论,分析SiC和LAS(Li2O-Al2O3-SiO2)之间可能发生的化学反应,定量计算在SiC中不同C活度,不同温度下SiC和LAS间诸反应各气相产物的分压和分压总和,精确分析SiC和LAS界面的热力学稳定性,提供在一个大气压惰性气体环境下,SiC和LAS界面的热力学失稳判据,为SiC材料研究者提供可靠的参考资料.

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来源
《材料科学与工程学报》|2004年第6期|881-885|共5页
作者
曹涯路; 王利; 杨光义; 潘颐;
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作者单位

浙江大学材料与化工学院,浙江,杭州,310027;

浙江大学材料与化工学院,浙江,杭州,310027;

浙江大学材料与化工学院,浙江,杭州,310027;

浙江大学材料与化工学院,浙江,杭州,310027;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类物理化学（理论化学）、化学物理学;
关键词
碳化硅; LAS(Li2O-Al2O3-SiO2); 界面热力学; 化学稳定性;
入库时间 2022-08-17 16:23:30

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