TbDyFe/FeNi多层膜的磁致伸缩性能

吕凤军; 斯永敏

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TbDyFe/FeNi多层膜的磁致伸缩性能

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本文采用磁控溅射工艺制备了TbDyFe/FeNi多层膜,研究了TbDyFe/FeNi多层膜的磁致伸缩性能及其影响因素.研究表明,随着FeNi膜层以及TbDyFe膜层厚度的减少,多层膜磁致伸缩性能增强,线性变化能力增强;通过真空退火、外加磁场镀膜和外加应力镀膜能够有效地提高TbDyFe/FeNi多层膜的磁致伸缩性能.

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来源
《材料科学与工程学报》 |2007年第4期|537-540|共4页
作者
吕凤军; 斯永敏;
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作者单位

北京航空工程技术研究中心,北京,100076;

国防科技大学航天与材料工程学院,湖南,长沙,410073;

国防科技大学航天与材料工程学院,湖南,长沙,410073;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类磁性材料、铁磁材料;
关键词
磁控溅射; TbDyFe/FeNi多层膜; 真空退火;

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