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基于遗传算法的磁光记录薄膜的温度特性计算

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摘要

介绍了计算磁光记录薄膜温度特性的基本原理,提出了RE-TM磁光记录薄膜温度特性计算的遗传算法.着重分析了算法实现中的关键步骤,包括适应函数的选取及定标、遗传算子的选取.实验证明该算法快速有效, 收剑性好.

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来源
《磁性材料及器件》 |2000年第1期|9-14|共6页
作者
胡煜; 李佐宜; 王可;
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作者单位

华中理工大学电子科学与技术系,湖北武汉,430074;

华中理工大学电子科学与技术系,湖北武汉,430074;

华中理工大学电子科学与技术系,湖北武汉,430074;

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正文语种 chi
中图分类薄膜物理学;磁性材料、铁磁材料;
关键词
磁光记录薄膜; 平均场理论; 遗传算法;

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