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ZnO陶瓷靶制备及其薄膜RF溅射工艺研究

         

摘要

利用固相反应制备了直径为70mm,厚度为10~15mm高质量掺杂Li2CO2的ZnO陶瓷靶材,实验了不同摩尔浓度的Li+掺杂对靶材性能的影响,确定了最佳Li+掺杂量为2.2mol%,同时通过在不同温度烧结实验、不同成型压力实验确定了ZnO靶材制备的最佳工艺,并采用所制备的ZnO-Li2.2%陶瓷靶和RF(射频磁控)技术在Si(100)、玻璃(载玻片)、及Pt(111)/Ti/SiO2/Si(100)基片上制备出高度c轴(002)择优取向的ZnO薄膜,其绝缘电阻率ρ为4.12×108Ω·cm,达到了声表面波器件(SAW)的使用要求.

著录项

  • 来源
    《无机材料学报》 |2006年第4期|1011-1017|共7页
  • 作者单位

    成都信息工程学院通信工程系,成都,610225;

    电子科技大学微电子与固体电子学院,成都,610054;

    电子科技大学微电子与固体电子学院,成都,610054;

    哈尔滨工业大学复合材料研究所,哈尔滨,150001;

    电子科技大学微电子与固体电子学院,成都,610054;

    电子科技大学微电子与固体电子学院,成都,610054;

    电子科技大学微电子与固体电子学院,成都,610054;

    电子科技大学微电子与固体电子学院,成都,610054;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 薄膜技术;
  • 关键词

    陶瓷靶; 氧化锌薄膜; 射频磁控溅射; 择优取向;

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