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Bi3.25La0.75Ti3O12超薄铁电薄膜的光学性质研究

         

摘要

采用化学溶液沉积法在Pt/Ti/SiO2/Si衬底上制备了厚度小于100nm的Bi3.25La0.75Ti3O12(BLT)铁电薄膜,测量了光子能量为2~4.5eV的紫外可见椭圆偏振光谱.根据经典的电介质光学色散关系和五相结构模型,拟合获得薄膜在透明区和吸收区的光学常数、表面粗糙度、薄膜与衬底界面层以及BLT薄膜的厚度.薄膜在透明区的折射率色散关系可以通过单电子Sellmeier模型成功地进行解释.最后,根据Tauc′s法则,得到Bi3.25La0.75Ti3O12薄膜的直接禁带宽度为3.96eV.

著录项

  • 来源
    《红外与毫米波学报》 |2003年第4期|256-260|共5页
  • 作者单位

    中国科学院上海技术物理研究所,红外物理国家重点实验室,上海,200083;

    中国科学院上海技术物理研究所,红外物理国家重点实验室,上海,200083;

    中国科学院上海技术物理研究所,红外物理国家重点实验室,上海,200083;

    中国科学院上海技术物理研究所,红外物理国家重点实验室,上海,200083;

    中国科学院上海技术物理研究所,红外物理国家重点实验室,上海,200083;

    中国科学院上海技术物理研究所,红外物理国家重点实验室,上海,200083;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 物理学;
  • 关键词

    Bi3.25La0.75Ti3O12,椭偏光谱,光学常数,禁带宽度;

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