旋转喷镀法制备GHz高磁导率NiZn铁氧体膜

摘要

用自研设备将加压的反应溶液Fe^2＋Cl2（＋Fe^3＋Cl3）＋NiCl2＋ZnCl2和缓冲溶液CH3COONH4以一定流量同时喷镀在90℃转盘上的玻璃衬底上以单质氧为氧化剂生成了厚度1-2μm的NiZn铁氧体薄膜.X射线衍射数据表明制备的NiZn铁氧体薄膜具有尖晶石结构.氧化液pH值等于8.8时制备的薄膜的组成是Ni0.25Zn0.09Fe2.66O4,有313 kA/m的大的饱和磁化强度和692.5 A/m的低的矫顽力.在0.1 GHz到3.5 GHz频率范围内用Agilent 8722ES矢量网络分析仪通过短路微带线微扰法测量了薄膜的复数磁导率.薄膜的复磁导率的实部r′μ在0.5 GHz为36.1,虚部r″μ在0.8 GHz达最大值55.5.磁导率虚部值在0.5-2 GHz频率范围大于20,制备的薄膜将可以应用于微波频段的电磁干扰抑制器.