Fabrication and Investigation of NiZn-ferrite Thin Films and Fe80Ni20-O/NiZn-ferriten Multilayer Thin Films

摘要

随着电子信息技术的迅猛发展，信息的传输速率和处理频率不断提高，电磁元件小型化、集成化与高频化的发展趋势要求应用于电磁元件中的软磁材料具有高的饱和磁化强度、低的矫顽力、高的磁导率、高的自然共振频率和高的电阻率。目前研究较为广泛的高频软磁材料主要是具有高饱和磁化强度以及高磁导率的FeCo及FeNi基合金软磁薄膜材料，这类材料受限于自身的金属特性，通常具有较低的电阻率，这将使其在应用于高频条件下时会产生大的涡流损耗，限制了它在高频领域的应用范围。近年来铁磁性合金与非磁性绝缘介质复合而成的纳米颗粒膜及多层膜能在一定程度上提升软磁薄膜的电阻率，但是非磁性绝缘介质的加入也会降低薄膜的饱和磁化强度。因此进一...