表面光滑的金刚石薄膜的合成

摘要

以 [CH4 +H2 ]为反应气体 ,利用EACVD的方法在Si(10 0 )衬底合成了表面光滑的超薄金刚石薄膜 .利用扫描电子显微镜 (SEM )、显微喇曼光谱、X射线衍射等手段对合成的金刚石薄膜的成分与结构进行了分析 .实验得到了生长表面光滑、厚度均匀的超薄金刚石薄膜的最佳条件 .