真空退火法制备的VOx薄膜的微观结构研究

摘要

以Ｖ２ＩＯ５粉末为原料采用真空蒸发镀膜法结合真空退火还原的方法，在单晶Ｓｉ（１００）衬底上得到了以ＶＯ２为主的薄膜，采用Ｘ射线衍射（ＸＲＤ）技术和扫描电子显微镜（ＳＥＭ）技术对不同退火条件下所得薄膜的物相和表面形貌进行分析，得到了薄膜的微观结构与退火条件的关系，并对最佳退火条件进行了探索。