金刚石薄膜-金属接触的SEM和XRD研究

摘要

用SEM和XRD研究了金刚石薄膜与双层金属之间的接触及界面性质.采用微波等离子体CVD方法在Si(111)基片上淀积了掺硼金刚石薄膜,然后蒸发上Ti/Au金属层,在氩保护气氛下700℃热处理50min后获得了一个线性的电流-电压特性.经SEM和XRD实验结果表明,Ti/Au金属与金刚石薄膜之间优良的接触性能的获得,显然是由于在金刚石薄膜-Ti/Au界面处产生了TiC新相以及TiC的浸润性质的缘故.