XPS和SIMS／FAB法研究负载氧化钨催化剂

摘要

用X-射线光电子能谱(XPS)和快原子束轰击的二次离子质谱(SIMS/FAB)研究了不同载体γ-Al_2O_3、TiO_2、SiO_2、ZrO_2和SnO_2负载的氧化钨催化剂的表面组成、结构和性质及其随深度的变化。结果表明,WO_3在γ-Al_2O_3、TiO_2、ZrO_2和SnO_2载体表面上有较好的分散,可以达到形成完全覆盖单层;而在SiO_2表面上不易分散。这两种手段的实验结果与其它谱学如XRD、LRS和UV-DRS的结果完全相符,并进一步支持了由其它谱学所得到的结论。