酞菁材料光限幅器件的优化

         

摘要

以四叔丁基酞箐铟掺杂PMMA为基质材料,进行优化设计制备出光限幅器件,测试了该光限幅器件的光限幅性能,通过与单片未优化的酞菁铟的PMMA树脂片材性能的对比,可以看出在线性透过率相近的情况下,优化器件的光限幅性能有很大的提高.

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